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一、概述

多角度激光橢偏儀使用632.8nm波長(cháng)HeNe激光器，對測量薄膜厚度，折射率和吸收系數有非常出色的精度。儀器能夠分析單層膜，多層膜和大塊材料（基底）。

二、規格

1、激光波長(cháng)：632.8nm；

2、150mm（z-tilt）載物臺；

3、入射角度可調，步進(jìn)5°；

4、自動(dòng)對準鏡/顯微鏡，用于樣品校準；

5、Small footprint；

6、以太網(wǎng)接口連接到PC。

三、產(chǎn)品特點(diǎn)

1、超高精度和穩定性，，來(lái)源于高穩定激光光源、溫度穩定補償器設置、起偏器跟蹤和超低噪聲探測器。

2、高精度樣品校準，使用光學(xué)自動(dòng)對準鏡和顯微鏡。

3、快速簡(jiǎn)易測量，可選擇不同的應用模型和入射角度。

4、多角度測量，可完全支持復雜應用和精確厚度。

5、全面預設應用，包含微電子、光電、磁存儲、生命科學(xué)等領(lǐng)域。

四、技術(shù)指標

1、波長(cháng)：632.8nm氦氖激光器。

2、長(cháng)期穩定性：d(y)=±0.01°；d(D)=±0.1°。

3、折射率測量精度：5×10^-4for 100nm SiO2 on Si。

4、弱吸光性薄膜厚度范圍（多晶硅）：最大2μm。

5、測量時(shí)間：120ms～1.5s（決定于測量方式）。

6、入射角：手動(dòng)角度計40°～90°，步進(jìn)值5°。

7、選項：360°旋轉單元；真空吸盤(pán)；x-y地形圖掃描載物臺。

8、90°位置時(shí)y，D精度：d(y)=±0.002°；d(D)=±0.002°。

9、膜厚測量精度：0.1Å for 100nm SiO2 on Si。

10、透明薄膜的厚度范圍：最大4μm。

11、膜層數量默認：在基底或多層膜上的1-3層膜。

12、激光束直徑：1mm。

13、樣品載物臺：可調節高度和角度的樣品臺，150mm直徑。

14、設置：高穩定性補償器，可得到0°和180°附近D的高精確度電腦控制的起偏器，最佳定位/探測，自動(dòng)校準高穩定旋轉分析器。